掩膜版(Photomask)又稱(chēng)光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是微電子制造過(guò)程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版,是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。
隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)整體需求持續(xù)擴(kuò)張,全球光掩模板規(guī)模表現(xiàn)為穩(wěn)步增長(zhǎng)趨勢(shì),行業(yè)整體技術(shù)壁壘深厚,產(chǎn)業(yè)集中度高,龍頭議價(jià)能力高,利潤(rùn)水平高,2022年全球光掩膜版市場(chǎng)...